表面効果
試5-40、8-36
参考書籍：完全解説P352
・石灰巣に高分子が捕捉されて、動きが制限されてT1が短縮し、T1WIで高信号を示す現象
・石灰化の表面積が大きいほどT1短縮効果が大きい
例）T1WIやPDWIで膝関節半月板の断裂面が高信号になる
※「石灰巣」を「粘調な蛋白質溶液」に置き換えると「高分子水和効果」という
MT効果
試18-11、18-28、16-16、14-1
参考書籍：完全解説P341、撮像技術P255
・自由水の信号が受けた変化を通して高分子や高分子に結合した水の1Hを、間接的に観察する
・MTパルスの使用により生じる
・TOF-MRAによる抹消血管の描出能は向上する
・Gd 造影剤の造影効果を向上させる
・磁化移動のこと
・適当なオフセット周波数のRFパルスを照射したとき、飽和した水素原子核の磁化が、ゆるく結合する水分子中の水素原子核のスピン系に移動すること
・コントラストの低下につながる
・観察法としてオンレゾナンス法とオフレゾナンス法がある
・On-resonance法でのMTパルスは横緩和時間の差を利用して結合水の磁化を飽和させる
・高速SE法はSE法より影響が強い
・高速SE法はオフレゾナンスパルスの影響が強い
位相分散
試13-38
・高速SEで血管(血流)が低信号に描出される
・対策：「TEを短くする」
磁化率効果
試18-13、7-12
・磁場強度に比例する
・磁化率効果の受けやすさ：EPI＞GRE＞SE＞FSE
J-カップリング(スピン-スピン結合)
試15-8、7-12、5-2、3-31
参考書籍：完全解説P336
・単位：[Hz]
・静磁場強度に無関係な一定の値
・磁性原子核が同じ分子内の原子核スピンに磁気的影響を与えること
・関係因子
：「Hの磁気回転比」
「距離」
「カップ」
「間の原子」
ブラーリング
試12-17、2-14、1-14
・対策
：「長方形FOVを使用する」
「パラレルイメージングを使用する」
「エコー間隔の短縮」
「位相マトリックスサイズの増加」
「T2緩和の補正」
「ETLを小さくする」
「バンド幅を大きくする」
「ピクセルサイズを大きくする」
「周波数エンコードの高周波領域を信号が低下する前に収集する」
流れ
位相シフト
試10-13
参考書籍：完全解説P584
・磁場勾配の強度に比例する
・印加時間の2乗に比例する
流速と信号強度
試15-27
完全解説P569～573
血管内の流速v、血管直径(断層厚)dにおいて、v＝d/TRのとき信号強度が最大となる
流速とともに流入効果により、v＝d/TRまで次第に高信号となる
GRE法ではそのまま高信号は維持される
SE法ではv＝d/TRを超えると高速度信号損失により信号は低下し、v＝2d/TEで0になる
流速補正
試10-13
参考書籍：完全解説P589
・流れによって発生した位相の分散を再収束させること
・高次の流れを補正するために、正負の傾斜磁場ローブの面積を2項式に増やす
画像の歪み
試5-31
参考書籍：集中講習P32
・原因
：「磁場強度不均一」
「傾斜磁場の直線性不良」
・発生方向とその大きさ
SE法：周波数方向＞位相方向
(傾斜磁場の直線性不良が原因の場合は両方向)
EPI法：位相方向＞周波数方向
拡散強調像における歪み
試17-28、15-18、12-15、9-8、9-15、6-11、5-10、5-31
参考書籍：撮像技術P77
参考PDF
・位相方向に大きく歪む
・FOVを変えない場合、位相エンコード数によって画像の歪みは変化しない
・half scanによって空間分解能を維持したまま位相エンコード数を減らすことができる
歪み影響のあるパラメータや因子とその対策
・バンド幅 ：大きくする
・FOV：小さくする
・長方形FOV：RFOVの短縮
(位相エンコード数の短縮)
・長方形マトリックス(周波数方向)
：マトリクス数を小さくする
・パラレルイメージング
：reduction factorを大きくする
・ETL（EPI-factorとも）：小さくする
・ショット数：大きくする
・エコースペース(エコー間隔) ：小さくする
・傾斜磁場のSlew rate：大きくする
・周波数エンコード傾斜磁場の印加時間：短くする
・位相エンコード傾斜磁場の面積：大きくする
・Ramp sampling：使用する
・磁場強度：小さくする
・MPG：あり
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